plasma pen made in germany

      Kênh 555win: · 2025-09-08 11:16:26

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      当前dry etch机台种类较多,同类设备不同厂商设计也各不相同(避免专利纠纷)。因为Plasma是靠外加能量的输入来维持刻蚀gas的等离子体状态,不同的能量输入方式以及机台结构的设计对等离子体的 …

      刚刚做完Plasma,回答一下Plasma吧。 做之前,已经查了很多资料,我以为准备要做的是CO2,看了知情书后才知道是Plasma.大概需要做三次。

      23 thg 2, 2021 · plasma等离子清洗机喷射出来的准确来说不是火焰,是等离子体中的光子导致的, 等离子体 中包括光子、电子、电子、 原子 和分子等物质;设备温度在大概在50-80摄氏度,有些甚至更 …

      半导体干法刻蚀ICP设备source power和bias power是如何协同工作的?改变source参数,其余参数如何对应变…

      尝鲜了一下。 说下最直观的感受, wayland 下终于可以开启4k真缩放且没有模糊感了。喜大普奔。以往高分屏+kde+wayland的组合是真的用不了一点。 kde6 总算解决了。(是不是真的完全解决了,还 …

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      Plasma Etch 为什么需要Low Pressure Plasma Etch的开发方向为 low pressure, high density plasma。 为什么需要低压呢? 1. MFP: pressure 降低->粒子数减少, MFP增加 2. Particle: 低压 …

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